在加熱、真空和濺射鍍膜機(jī)等工藝后清洗玻璃涂層前造成的針孔二次污染，使玻璃再次受到污染，使涂層后的玻璃出現(xiàn)針孔。玻璃加熱過程中的再污染是加熱室或?yàn)R射室不干凈，而對(duì)玻璃的再污染，這些污染源主要來自擴(kuò)散泵回油、加熱室或?yàn)R射室臟、靶玻璃濺射靶灰、殘余氣體壓力高。因?yàn)楣腆w物質(zhì)的平均單位表面積大約有10個(gè)分子，在恒定的Pa壓力下，每秒撞擊表面的分子數(shù)與覆蓋物質(zhì)整個(gè)表面積的分子數(shù)大致相同。在剩余氣體壓力為10的情況下，如果薄膜以每秒一層原子的速度形成，則剩余氣體的原子和分子的蒸發(fā)擊中基底的概率幾乎相同。在濺射過程中，壓力為10 ~ 10時(shí)形成的薄膜速度與蒸發(fā)條件下基本相同。

    殘余氣體的存在不僅影響膜的純度和質(zhì)量，而且還會(huì)產(chǎn)生針孔。因此，在生產(chǎn)中應(yīng)選用高純氬氣作為工作氣體，并嚴(yán)格控制真空室的泄漏率，以減少殘余氣體對(duì)原膜和膜層的污染。殘余氣體的壓力控制在10Pa以下，加熱室、玻璃過渡室、濺射室的環(huán)境應(yīng)經(jīng)常清洗，以減少擴(kuò)散泵油返回玻璃的污染。同時(shí)，適當(dāng)增加陰極的濺射功率，增加粒子的動(dòng)能和擴(kuò)散能力，有利于去除鍍膜玻璃表面的殘留物質(zhì)，減少鍍膜玻璃的針孔。鍍膜玻璃膜的膜厚均勻性一般來說，同一基片上的膜厚不同，稱為膜層不均勻。鍍膜玻璃涂層不均勻的原因有很多。磁控濺射的關(guān)鍵參數(shù)之一是垂直于電場(chǎng)的水平磁場(chǎng)強(qiáng)度B，因?yàn)樗酱艌?chǎng)強(qiáng)度B要求在陰極靶表面呈均勻值。在實(shí)際的生產(chǎn)過程中，價(jià)值隨著方法的使用和時(shí)間的推移而變化，出現(xiàn)不均勻現(xiàn)象。這可以通過濺射陰極靶刻蝕區(qū)的變化來驗(yàn)證。