PVD的全稱是Physical Vapor Deposition，即物理氣相沉積。是一種物理狀態(tài)下的物質轉移過程，可以將原子或分子狀態(tài)下的物質從一個物體轉移到另一個物體上，從而使其具有更加優(yōu)異的性能。

　　PVD鍍膜可以在真空環(huán)境下進行，這項技術稱為PVD真空鍍膜。金屬在真空環(huán)境下與各種氣體產生綜合作用形成等離子體，經過加速后，等離子體涌向被鍍工件表面，形成牢固的膜層。這層膜細密均勻，結合力強，硬度高，防腐耐磨，具有良好的導電性和自潤滑性能，同時色澤豐富多樣。

　　而且，由于PVD真空鍍膜是在真空環(huán)境下進行，而真空中的大物分物質已被排出，所以鍍膜的過程受到外界干擾的影響就很小，顏色就不會雜亂，也沒有膜層脫落的后顧之憂。

　　PVD真空鍍膜能為您帶來多姿的色彩，讓您在這大千世界里盡情展現特別風格