pvd真空泵鍍膜的基本原理主要是物理學液相沉積，其是當今國際性上廣泛運用的優(yōu)秀的金屬表面處理技術性。其原理便是在真空泵標準下，運用汽體充放電使汽體或被蒸發(fā)化學物質一部分離化，在汽體離子或被蒸發(fā)化學物質離子負電子功效的另外把蒸發(fā)物或其生成物沉積在板材上。pvd真空電鍍具備沉積速度更快和表層清理的特性，尤其具備膜層粘合力強、繞性好、可鍍原材料普遍等優(yōu)勢。選用全世界優(yōu)秀的磁控濺射離子鍍膜和多弧離子鍍膜工藝技術，及在這個基礎以上與國際性權威專家的加工工藝自主創(chuàng)新。憑著在裝飾設計鍍領域十多年的珍貴工作經(jīng)驗，為顧客出示合適的鍍層生產(chǎn)加工計劃方案。pvd真空電鍍抗氧化性，耐腐蝕，抗腐蝕，有機化學特性平穩(wěn)，抑酸。手機殼PVD鍍膜抵抗能力，鍍膜機殼非常容易消除漆料和指紋識別。在明顯的太陽，咸的濕地公園和大城市自然環(huán)境下，也不無光澤，不空氣氧化，不退色，不掉下來。高寬比抗磨損，耐刮擦，不容易刮傷?？慑冊牧掀毡?，與基材結合性強。