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真空濺射離子鍍膜(PVD)服務(wù)商

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真空鍍膜設(shè)備離子鍍的類型及特點是怎樣的?

時間:2022-05-30    點擊數(shù):

 真空鍍膜機離子鍍技術(shù)市場使用占比率非常高,鍍餐具,鍍家居,鍍飾品等都離不開離子鍍膜技術(shù),離子鍍膜技術(shù)不僅僅在國內(nèi)受追捧,國外也是一樣受喜愛。那么,真空鍍膜設(shè)備離子鍍的類型及特點是怎樣的?下面小編為大家詳細介紹一下:


離子鍍是結(jié)合真空蒸鍍和濺射鍍兩種技術(shù)而發(fā)展起來的沉積技術(shù)。在真空條件下,采用適當(dāng)?shù)姆绞绞瑰兡げ牧险舭l(fā),利用氣體放電使工作氣體和被蒸發(fā)物質(zhì)部分電離,在氣體離子和被蒸發(fā)物質(zhì)離子的轟擊下,蒸發(fā)物質(zhì)或其反應(yīng)產(chǎn)物在基體上沉積成膜。離子鍍的基本過程包括鍍膜材料的蒸發(fā)、離子化、離子加速、離子轟擊工件表面成膜。根據(jù)鍍膜材料不同的蒸發(fā)方式和氣體的離化方式,構(gòu)成了不同類型的離子鍍,下表是幾種主要的離子鍍。離子鍍具有鍍層與基體附著性能好、繞射性能好、可鍍材質(zhì)廣、沉積速率快等優(yōu)點。
 
離子鍍的種類及其特點:

直流放電法  電阻  輝光放電dc:0.1kv~5kv  惰性氣體1pa,0.25ma/cm2  結(jié)構(gòu)簡單,膜層結(jié)合力強,但鍍件溫升高,分散性差! 耐熱,潤滑等鍍件


弧光放電法  電子束、燈絲  弧光放電dc:100v 高真空1.33x10-4pa  離化率高,易制成反應(yīng)膜,可在高真空下成膜,利于提高質(zhì)量  切削工具、金屬裝飾等鍍件


空心陰極法  空心陰極  等離子體電子束dc:0v~200v 惰性氣體或反應(yīng)氣體  離化率高,蒸發(fā)速度大,易獲得高純度膜層  裝飾、耐磨等鍍件


調(diào)頻激勵法  電阻、電子束  射頻電場13.56mhzdc:0.1kv~5kv 惰性氣體或反應(yīng)氣體  離化率高,膜層結(jié)合力強,鍍件溫升低,但分散性差  光學(xué)、半導(dǎo)體等鍍件


電場蒸發(fā)法  電子束  二次電子dc:1kv~5kv 真空  不純氣體少,能形成較好的膜  電子元件


多陰極法    電阻、電子束 熱電子dc:0v~5kv 惰性氣體或反應(yīng)氣體 低速電子離化效果好  裝飾、電子、精密機械等零件

聚焦離子束法 電阻 聚集離子束dc:0v~5kv 惰性氣體  因離子聚束,膜層結(jié)合力強  電子元件


活性反應(yīng)法 電子束 二次電子dc:200v 反應(yīng)氣體o2、n2、ch4、c2h4等  金屬與反應(yīng)氣體組合能制備多種傾倒物膜層 電子、裝飾、耐磨等鍍件。


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