真空鍍膜使用是真空使用中的一個大分支，在光學、電子學、理化儀器、包裝、機械以及外表處理技能等眾多方面有著非常廣泛的使用。為了讓我們更具體的了解真空鍍膜的使用，今天小編具體為大家介紹真空鍍膜使用的主要幾種辦法，希望對大家有用！真空鍍膜加工

真空鍍膜使用，簡單地了解就是在真空環(huán)境下，使用蒸鍍、濺射以及隨后凝聚的辦法，在金屬、玻璃、陶瓷、半導體以及塑料件等物體上鍍上金屬薄膜或者是覆蓋層。相對于傳統(tǒng)鍍膜方法，真空鍍膜使用屬于一種干式鍍膜，它的主要辦法包含以下幾種：

真空蒸鍍

其原理是在真空條件下，用蒸騰器加熱帶蒸騰物質(zhì)，使其氣化或升華，蒸騰離子流直接射向基片，并在基片上堆積分出固態(tài)薄膜的技能。

濺射鍍膜

濺射鍍膜是真空條件下，在陰極接上2000V高壓電，激起輝光放電，帶正電的氬離子撞擊陰極，使其射出原子，濺射出的原子通過惰性氣氛堆積到基片上構(gòu)成膜層。

離子鍍膜

即干式螺桿真空泵廠家現(xiàn)已介紹過的真空離子鍍膜。它是在上面兩種真空鍍膜技能基礎上發(fā)展而來的，因此兼有兩者的工藝特色。在真空條件下，使用氣體放電使工作氣體或被蒸騰物質(zhì)（膜材）部別離化，并在離子炮擊下，將蒸騰物或其反響物堆積在基片外表。在膜的構(gòu)成過程中，基片一直遭到高能粒子的炮擊，非常清潔。

真空卷繞鍍膜

真空卷繞鍍膜是一種使用物理氣相堆積的辦法在柔性基體上連續(xù)鍍膜的技能，以完成柔性基體的一些功能性、裝飾性屬性。

上述四種都屬于物理氣相堆積技能使用（PVD）。

接下來是化學氣相堆積（CVD）。它是以化學反響的方法制造薄膜，原理是一定溫度下，將含有制膜材料的反響氣體通到基片上并被吸附，在基片上發(fā)生化學反響構(gòu)成核，隨后反響生成物脫離基片外表不斷擴散構(gòu)成薄膜。

束流堆積鍍，結(jié)合了離子注入與氣相堆積鍍膜技能的離子外表復合處理技能，是一種使用離化的粒子作為蒸鍍資料，在比較低的基片溫度下，構(gòu)成具有良好特性薄膜的技能。